Appareil de pulvérisation cathodique Plasmionique SPT320

Description

Déposition de couches minces

Marque et modèle

Plasmionique - SPT320

Spécifications techniques

• Système à 3 magnétrons (matériaux disponibles :Ag, Al, AlN, Al₂O₃, AlSiCu, Cr, Cu, Hf, HfO₂, In₂O₃, ITO, Mo, Nb, Ni, NiCr, Si, SiO₂, Ta, Ti, TiN, TiO₂, W) permettant de réaliser des dépôts multicouches
• Porte-échantillon rotatif, coupons, substrat de 100mm ou moins
• Sources RF et DC

Exemples de procédés disponibles

• Métallisations de surface
• Dépôt de multicouches métalliques pour réalisation de contacts ohmiques sur semiconducteurs et hétérostructures