Réacteur CBE pour matériaux III-N OSÉMI inc V1 

Description

Dédié à la croissance des matériaux III-N

Marque et modèle

OSEMI inc -V1    

Spécifications techniques

• Réacteur d'épitaxie OSEMI inc. 
• Equipé de Pyromètrie
• Échantillon de 2", 1", 14mm carré
• Précurseurs :
  • N, DMH – Dimethyl Hydrazine
  • N, NH3 – Ammoniac
  • Ga, TEGa – Triethyl Gallium
  • In, TMIn – Trimethyl Indium
  • Al, TMAl – Trimethyl Aluminium
  • Al, DMAlH – Dimethyl Aluminium Hydride
  • Mg, CPMM –  Bis(MethylCycloPentaDienyl) Magnesium
  • Mg, CP2Mg – Bis(CycloPentaDienyl) Magnesium
  • Si, SiBr4 – Tetrabromure de Silicium

Exemples de procédés disponibles

• Matériaux III-V (Arseniures et Phosphures) pour l'optoeléctronique
• Voir le diagramme des matériaux disponibles