Système de dépôt Angstrom Nebula

Description

Système de dépôt de couches minces par canon d'électrons et pulvérisation cathodique

Marque et Modèle

Angstrom-Nebula

Spécifications techniques

• Taille maximale des substrats : coupon, substrat de 200 mm ou moins, compatible avec l'utilisation de petits échantillons
• Matériaux disponibles :
  • évaporation : Al, Au, Cr, Ge, Ni (à venir) Pt, Ti. Carrousel à 6 creusets permettant de réaliser des dépôts multicouches sans avoir à casser le vide. 
  • pulvérisation : Ti, Al, ITO, TiN un magnétron en RF et un magnétron en DC pulsé
• Nettoyage in-situ et assistance par faisceau d'ions.
• Gaz disponibles pour pulvérisation réactive et faisceaux d'ions : Ar, N2, O2
• Porte-échantillons rotatif, chauffant jusqu'à 600°C

Exemple de procédés disponibles

• Métallisations de surface
• Dépôt de multicouches métalliques pour réalisation de contacts ohmiques sur semiconducteurs et hétérostructures