Procédés de gravure Cobra III-V
![GaAs-résine](/3it/fileadmin/_processed_/7/6/csm_GaAs_resine_Cobra_III-V-R_e82c664254.jpg)
GaAs semi Isolant
Selectivité avec SiO2 : 40:1
Selectivité avec photorésine : 9:1
![Al-résine](/3it/fileadmin/_processed_/c/5/csm_Al_resine_CobraIII-V-R_ca1e465f52.jpg)
Al évaporé
Sélectivité avec SiO2 : 20:1
Sélectivité avec photorésine : 4:1
![Si-résine](/3it/fileadmin/_processed_/4/9/csm_Si_resine_Cobra_III-V-R_132f43e155.jpg)
Si
Sélectivité avec SiO2 : 3:1
Sélectivité avec photorésine : 0,6:1
![pas d'image](/3it/fileadmin/_processed_/e/7/csm_pas_dimage_dispo_d520763d8c.png)
InP
Sélectivité avec SiO2 : 15:1
Sélectivité avec photorésine : /