Graveur plasma Oxford Cobra III-V
Description
Gravure de composés et hétérostructures III-V
Marque et modèle
Oxford Instruments - Plasma Pro 100-D Cobra 300
Spécifications techniques
- Température du substrat : -150°C à 400°C
- Source ICP : jusqu'à 3kW à 2MHz
- Source du plateau : jusqu'à 600W à 13.56MHz
- Gaz installés : Ar, O2, N2, H2, SF6, SiCl4, BCl3, Cl2, CH4, HBr
- Taille des échantillons : jusqu'à 200mm
- Spectromètre optique (end point) : Verity instruments SD2048GM
Exemples de procédés disponibles
- Gravure de matériaux III-V, Ge, GaN
- Gravure ALE (atomic layer etching)